中國儀器進(jìn)出口集團(tuán) 對下列產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)行國際公開競爭性招標(biāo)，于2024-04-30在公告。本次招標(biāo)采用傳統(tǒng)招標(biāo)方式，現(xiàn)邀請合格投標(biāo)人參加投標(biāo)。1、招標(biāo)條件項目概況:設(shè)備名稱：多靶濺射機設(shè)備數(shù)量：1臺設(shè)備用途：該設(shè)備主要用于硅平面、介質(zhì)層及金屬層表面Ti、Au、Pt、Cr等粘附層、阻擋層、與種子層的磁控濺射工藝，以及需要采用shadow mask濺射工藝來制備PAD、鏡面等。資金到位或資金來源落實情況:資金已到位項目已具備招標(biāo)條件的說明:已具備2、招標(biāo)內(nèi)容招標(biāo)項目編號:0709-244035614025招標(biāo)項目名稱:8英寸MEMS晶圓生產(chǎn)線之多靶濺射機項目實施地點:中國安徽省招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):

序號	產(chǎn)品名稱	數(shù)量	簡要技術(shù)規(guī)格	備注
1	多靶濺射機	1套	機臺規(guī)格為全新機臺，適用晶圓尺寸：8英寸，notch，基片托盤：≥10個，預(yù)真空室可裝載至少10個基片托盤，每個基片托盤可裝載1片基片； 設(shè)備配置：磁控陰極≥4個，陰極靶材尺寸≥6英寸；具有Loadlock（裝載模塊）；傳輸模塊裝有機械手，可實現(xiàn)晶圓在Loadlock（裝載模塊）和工藝模塊之間的傳輸；具備反濺清洗功能及加熱除氣功能； 高真空腔室：配置腔室防污罩（Processkits）4套以上，以及配備觀察窗；

3、投標(biāo)人資格要求投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:（1）投標(biāo)人是響應(yīng)招標(biāo)、已在招標(biāo)人或招標(biāo)機構(gòu)處領(lǐng)購招標(biāo)文件并參加投標(biāo)競爭的法人或其他組織。任何未在招標(biāo)人或招標(biāo)機構(gòu)處領(lǐng)購招標(biāo)文件的法人或其他組織均不得參加投標(biāo)。（2）凡是來自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿(mào)易往來的國家或地區(qū)的法人或其他組織均可投標(biāo)。（3）與招標(biāo)人存在利害關(guān)系可能影響招標(biāo)公正性的法人或其他組織不得參加投標(biāo)。（4）接參與項目前期咨詢和招標(biāo)文件編制的法人或其他組織不得參加一家代理商參與本項目投標(biāo)。同一品牌的制造商和代理商不能同時參加本項目的投標(biāo)。（11）投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備授權(quán)代理商，代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書；并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。（12）投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備再制造廠商，也可以是設(shè)備授權(quán)代理商，代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書；并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。要求2020年至今同類型設(shè)備出貨量與驗收數(shù)量大于【5】臺，國產(chǎn)設(shè)備與再制造廠商提供合同和驗收材料，進(jìn)口全新設(shè)備出具蓋章的業(yè)績說明材料。是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受未領(lǐng)購招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以4、
未曾在中國電力招標(biāo)采購網(wǎng)（www.dlztb.com）上注冊會員的單位應(yīng)先注冊。登錄成功后根據(jù)招標(biāo)公告的相說明下載投標(biāo)文件！

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