招標公告
1. 招標條件
本招標項目介質(zhì)層淀積設備（SIH4） 該項目已具備招標條件，現(xiàn)對介質(zhì)層淀積設備（SIH4）進行國內(nèi)公開招標。
2. 項目概況與招標范圍
2.1 招標編號：ZKX20230424A0XX
2.2 招標項目名稱：介質(zhì)層淀積設備（SIH4）。
2.3 數(shù)量：1臺。
2.4 主要功能要求：該設備為國產(chǎn)全新8寸SIH4源的介質(zhì)淀積設備，自帶SMIF（或同類裝置），RFID及EAP通訊功能，配置三個PECVD TWIN Chamber（均為SIH4腔），擁有PEOX工藝、SRO工藝、SIN工藝、SRN工藝、SION工藝和FSG工藝等功能，每個Chamber擁有In-situ N2 plasma處理功能。
2.5 交貨
2.6 交貨期：合同生效后150天。
3. 投標人資格要求
3.1投標人須為具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內(nèi)注冊的法人或其他組織，具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書或其它營業(yè)登記證書。
3.2業(yè)績要求：投標人提供本次投標同型號或同系列的設備從2020年至今的任意一年的銷售業(yè)績，且一年中累計銷售量至少10臺；須提供設備采購合同復印件，其內(nèi)容須體現(xiàn)合同首頁及簽字或蓋章頁、合同簽訂時間、合同標的物及其型號。
3.3 其它要求：本次招標不接受代理商投標。
3.4本次招標不接受聯(lián)合體投標。
3.5投標人必須向招標代理機構